设备的供货商不为人知，但其间还有一家颇有名望的公司，那便是来自荷兰的 ASML。
ASML 出产用于制作从逻辑到 NAND（用于 SSD、闪存等）和DRAM等简直一切芯片的光刻设备。这些东西运用光在晶圆上“打印”特征、制作晶体管等。多年来，该职业一向运用 193 纳米波长的“深紫外光 （“DUV”） 光刻技能”。大约在 2000 时代中期，这项技能扩展到“浸没式光刻”：这项技能在透镜和晶片之间运用水。这将NA（breaking index）从大约 1.0 进步到大约 1.35，从而将东西的分辨率进步了相似的量。
业界预估，在 32nm 节点及以下节点（早在十多年前），光刻机光源步长将从 193nm 跃升至 13.5nm 光，后者称为极紫外或 EUV，这将大大进步分辨率，以继续摩尔定律的惊天缩放。NA 从 1.35 下降到 0.35 可以部分抵消波长的这种改善。
可是，与商用DUV 东西的约 300WPH 比较，前期的 EUV 东西的吞吐量极低，仅为每小时 10-40 个晶圆的订单（“WPH”）。这种低吞吐量意味着该东西在商业上不可行。这导致了多年的延误，由于 ASML 终年处理这些问题。
与此一起，为了继续微缩，业界发明晰（贵重且杂乱的）“多重图画化”方案：这些技能屡次曝光晶圆以创立一个特征，需求多个（相同贵重的）“掩模”。（掩膜界说了“印刷”在晶圆上的特征，作为芯片的模板。）趁便说一句，这也是英特尔在 14 纳米和 10 纳米中遇到很多良率问题的原因之一。
终究，在曩昔几年中，这些 EUV 东西现已完成了商业化，台积电 5nm 是第一个旨在在多层上广泛运用 EUV 的节点。该节点自 2020 年开端量产。
总归，从 DUV（193nm 光）到 EUV（13.5nm 光）的过渡对接连摩尔定律起着重要效果。而ASML 是世界上仅有一家可以供给 EUV 东西的公司。
尽管有多家 DUV 光刻东西供货商，但正如所指出的，只要一家企业具有 EUV光刻机，那便是ASML。这意味着 ASML 作为该东西的仅有供货商发挥着至关重要的效果，其EUV设备的均匀价格 （“ASP”） 远超越 1 亿美元（具体而言超越 1.4 亿美元），并使 ASML 成为股市中真实的赢家。它在曩昔几年推动了后者的收入和收益，EUV 现在简直占其超越 100亿收入的一半。
ASML 宣告，其在 2020 年出货了 31 台 EUV 东西。尽管这标明 EUV 现已到达老练，但仍低于其 35 台出货方案。（假如我没记错的线 种东西现已下滑，所以方案的确是 39 次出货。）可是，未能合格的部分原因是英特尔有据可查的 7nm 推延：这削减了 ASML四个单位的出货量。此外，实体清单也给台积电带来了问题，其前 5 大客户之一（华为）在几个季度内消失了。
正如 ASML 的首席执行官所解说的那样，这两个问题导致该公司估量需求低于预期，因而转向其供给链以削减 2021 年的产值。
ASML 首席执行官标明：这仅仅对上一年第二季度和第三季度产生的工作的反映，你知道，登高望远的首要代工厂客户明显回来说，听着，登高望远的 N3 首要客户现在被列入黑名单。
所以，登高望远不能发货。因而，登高望远需求调整 EUV 复古的 2021 年展望，随后另一位客户标明，嗯，登高望远将推延路线图，这也意味着这将推延一年，这实际上导致了一种状况登高望远实际上削减了 EUV 方案复古 2021 的数量，由于客户说，这是两个原因。他们是两个大客户。
可是，从那时起产生的工作或许是众所周知的：半导体缺少。首要，台积电宣告了 2020 年 280美元的巨额本钱开销指引，以应对对其抢先工艺技能的需求激增。后来进一步增加了到300亿美元，而且在三年内的整体预期为1000亿美元。
尽管半导体晶圆厂必定需求其他东西，但明显本钱开销的大幅增加将成份额地使 ASML 获益。
其次，英特尔自 7 纳米推延以来的演化也有记载。特别是，英特尔新任 CEO 特意将“全面拥抱 EUV”作为让 7nm 重回正轨的要害原因，修订后的 7nm 工艺流程包括两倍的 EUV 层数。这明显也有利于英特尔未来对 EUV 的需求。例如，尽管上面的引证谈到了四个复古，但最近 ASML 实际上只谈到了两个复古。明显，英特尔在 EUV 上的开销将在 2022 年及今后增加。
为了满意所描绘的需求，ASML 此前曾标明将在 2021 年进步其出产能力，最多可出产 45-50 个 EUV 东西。可是，鉴于供给链的交货时刻较长以及上一节所述的问题，ASML 无法及时对 EUV 需求的增加做出反响。因而，ASML 很或许在 2020 年仅供给约 40 个设备。
有人指出，这将导致 ASML 接连第四年或第五年无法到达其年度交给方针，但当然仅仅谈论了对此的提示。
尽管如此，估量 ASP 的增加也将带来进一步的增加，路线图上有几个晋级的东西，这将带来改善，例如更高的 WPH 吞吐量。ASML 估量其行将推出的东西将与其公司毛利率以及低两位数的 ASP 增加（从约 1.4 亿美元的水平）到达平价。2023 年东西实际上将在毛利率上穿插。
还有一些要素可以带来额定的增加。例如，服务收入取决于曝光的晶圆数量，直到最近，这关于 EUV 来说依然很低。为此，ASML 标明，每个 EUV 东西根本上都会成为其 ASP 每年 5-6% 的经常性收入来历。
此外，未来将有更多晶圆（芯片中的层）运用 EUV 进行曝光，由于现在只要十几个最要害的层运用 EUV 进行曝光。（这便是英特尔“全面拥抱 EUV”的意思。）最终，DRAM 内存职业有望在未来也选用 EUV。
依据客户对先进节点不断增加的 EUV 需求，据估量，ASML本年将比上一年增加约 30%，相当于 2021 年 EUV 复古收入约为 58 亿欧元。
因而，尽管 EUV 交给量低于预期，但考虑到 ASP 的增加，ASML 仍估量 2021 年 EUV 将增加 30%。此外，鉴于老练工艺晶圆厂的半导体缺少，ASML 现在也估量其非 EUV 事务需求微弱。例如，台积电前所未有地宣告将扩大28nm 晶圆厂产能。
到 2022 年，当上述供给问题根本得到处理时，ASML 现在估量将出货 55 个 EUV 复古。尽管如此，ASML 标明，即便如此，它也或许会遭到其供给链的削减，由于需求或许会超越 55 个复古的供给。
ASML 现在出货 NXE:3300C 类型，价格 1.3 亿美元，可到达 135WPH。可是，经过附加选项，ASP 增加到上面说到的约 1.45 亿美元。
NXE:3300E 类型将在 2023 年完成到来，该类型可以到达 220WPH，这是出产力的另一项十分微弱的改善。因而，这将是 ASP增加的另一个来历 （ASML 指出，尽管 E 类型的 COGS（出售本钱）较高，但毛利率仍会增加，由于它与更贵重的 》 3 亿美元的“High NA EUV” EXE:5000 东西同享一些部件。）
尽管如此，正如 EXE:5000 东西所标明的那样，EUV 并不是光刻缩放的最终挑选。多年来，ASML 一向致力于开发 EUV 之外的下一代东西。
如上所述，尽管与之前的 DUV 东西比较，EUV 的波长明显下降，但 EUV 的NA的确从 1.35 大幅下降到 0.35。（不谈物理，破指数是光和光学范畴的一种现象。）因而，几年前ASML开端研制下一代东西来处理这个问题，称为High NA EUV，参考到东西将具有的更高的 NA 数。此东西会将这个方针增加到 0.55。优点是这进一步进步了分辨率。
这将是一种更贵重的东西，其本钱超越一架飞机，估量本钱超越 3 亿美元。因而，即便在开端引进 EUV 之后，ASML 的长时刻增加远景依然安定，由于在逻辑和 DRAM 中越来越多的 EUV 选用、更高的 ASP 以及下一次晋级到更贵重的High NA EUV。
可是，最近在 1 月第四季度财报发布期间，一个正告变得明晰起来。看来High NA光刻现已推延了几年。
此前，估量High NA 将在 2023 年推出。例如，英特尔一向在呼吁开发High NA 生态复古以防止延误。
因而，开发High NA设备势在必行。“在继续改善 0.33 的一起，登高望远需求开发 0.55，”英特尔研究员兼芯片巨子的光刻硬件和处理方案总监Mark Phillips在最近的一次讲演中说。“英特尔具有强壮的工艺节点路线图，需求继续 EUV 光刻开发的分辨率和 EPE（边际放置差错）优势。需求High NA EUV 以防止 0.33 NA mask splits，消除mask splits的累积 EPE，削减工艺杂乱性并下降本钱。登高望远需求生态复古预备好在 2023 年之前为其供给支撑。”
在此次活动中，Phillips对光刻师和掩模制作商宣告说话，呼吁采纳举动，以坚持High NA EUV 走上正轨，并处理技能距离，即掩模和抗蚀剂。High-NA 一向是 2023 年的方针，但依据曩昔的事情，它有或许下滑。现在的 EUV 在投入出产之前现已晚了几年。
可是，ASML 宣告，它现在估量High NA 设备将在 2025 年或 2026 年（由其客户）进入商业出产，这意味着最多推延三年。
登高望远正在与客户就Hihg NA 量产的路线图时刻坚持一致，现在估量在 2025-2026 年的时刻范围内。
为满意这一时刻表，登高望远将于本年开端集成模块，并方案在 2022 年具有第一个合格复古。登高望远方案在 2023 年在客户现场初次装置第一批复古，并方案供给关于登高望远的 High-NA 的更具体的更新本年终年者日期间的方案。
因而，这对职业和 ASML 来说都是一次波折。关于业界来说，这意味着要继续缩小晶体管的尺度，他们将不得不运用那些开端为“DUV 浸没式光刻”而开发的“多重图画化”技能。尽管现在多重图画在职业中现已老练，但它依然是一种贵重的技能。将此与贵重的 EUV 东西相结合或许会给晶圆本钱带来压力。
不过，关于 ASML 而言，多重 EUV 图画实际上或许会进一步增加对其当时 EUV 东西的需求。因而，这实际上或许会部分抵消High NA EUV 推延带来的（假定）收入影响。
关于具有多年视界的长时刻终年者来说，推延应该无关紧要，就像之前好久的 EUV 推延现在不再重要相同，由于 ASML（总算）从 EUV 获得了数十亿美元。
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